|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 40 van 76 gevonden artikelen
| Titel: |
Ion incidence angle-dependent pattern formation on AZ® 4562 photoresist by reactive ion beam etching |
| Auteur: |
Rüdiger, Tom Mitzschke, Martin Bundesmann, Carsten Prager, Andrea Liu, Ying Abel, Bernd Schulze, Agnes Frost, Frank |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 494 () nr. P2 pagina's p. |
| Jaar: |
2024 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 40 van 76 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |