|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 28 gevonden artikelen
| Titel: |
Growth and characterization of Si-doped Ga2O3 thin films by remote plasma atomic layer deposition: Toward UVC-LED application |
| Auteur: |
Zhang, Xiao-Ying Yang, Yue Fan, Wei-Hang Wang, Chen Wu, Wan-Yu Tseng, Ming-Chun Wuu, Dong-Sing Gao, Peng Kuo, Hao-Chung Lien, Shui-Yang Zhu, Wen-Zhang |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 435 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 28 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |