Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 16 van 47 gevonden artikelen
 
 
  Etching and annealing treatment to improve the plasma-deposited SiOx film adhesion force
 
 
Titel: Etching and annealing treatment to improve the plasma-deposited SiOx film adhesion force
Auteur: Wang, Ruixue
Xia, Zhangchuang
Kong, Xianghao
Liang, Lihong
Ostrikov, Kostya (Ken)
Verschenen in: Surface & coatings technology
Paginering: Jaargang 427 () nr. C pagina's p.
Jaar: 2021
Inhoud:
Uitgever: Elsevier B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 16 van 47 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland