|
Amorphous AlN nanolayer thickness dependent toughness, thermal stability and oxidation resistance in TaN/AlN nanomultilayer films |
|
|
|
Titel: |
Amorphous AlN nanolayer thickness dependent toughness, thermal stability and oxidation resistance in TaN/AlN nanomultilayer films |
Auteur: |
Qi, J.L. Wang, L.P. Zhang, Y. Guo, X. Yu, W.Q. Wang, Q.H. Zhang, K. Ren, P. Wen, M. |
Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
Paginering: |
Jaargang 405 () nr. C pagina's p. |
Jaar: |
2021 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|