|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 24 van 38 gevonden artikelen
| Titel: |
Improvement of GaN plasma etching uniformity by optimizing the coil electrode with plasma simulation and experimental validation |
| Auteur: |
Xiao, Dezhi Ruan, Qingdong Liu, Liangliang Shen, Jie Cheng, Cheng Chu, Paul K. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 400 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 24 van 38 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |