|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 40 gevonden artikelen
| Titel: |
High-rate sputter deposition of chromium oxide thin films using water vapor as a reactive gas |
| Auteur: |
Wang, Fan Abe, Yoshio Kawamura, Midori Kim, Kyung Ho Kiba, Takayuki |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 387 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 40 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |