|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 40 van 112 gevonden artikelen
| Titel: |
Enhancement of discharge and deposition rate in dual-pulse pulsed magnetron sputtering: Effect of ignition pulse width |
| Auteur: |
Wu, Houpu Tian, Qinwen Tian, Xiubo Gong, Chunzhi Zhang, Xinyu Wu, Zhongzhen |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 374 (2019) nr. C pagina's 383-392 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 40 van 112 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |