|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 29 van 37 gevonden artikelen
| Titel: |
Regulating the uniformity of DLC films in ECR plasma with negative substrate biasing |
| Auteur: |
Deng, Q.Y. Wang, C.M. Zhang, T.F. Yang, Wenmao Li, Xueyuan Huang, N. Leng, Y.X. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 365 (2019) nr. C pagina's 15-23 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 29 van 37 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |