|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 45 van 63 gevonden artikelen
| Titel: |
On the origin of enhanced resistive switching behaviors of Ti-doped HfO2 film with nitrogen annealing atmosphere |
| Auteur: |
Zhou, Hao Wei, Xiaodi Wei, Wei Ye, Cong Zhang, Rulin Zhang, Li Xia, Qing Huang, Hong Wang, Bin |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 359 (2019) nr. C pagina's 150-154 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 45 van 63 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |