|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 37 van 63 gevonden artikelen
| Titel: |
Mechanism of dense silicon dioxide films deposited under 100 °C via inductively coupled plasma chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Lien, Shui-Yang Cho, Yun-Shao Hsu, Chia-Hsun Shen, Kuo-Yao Zhang, Sam Wu, Wan-Yu |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 359 (2019) nr. C pagina's 247-251 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 37 van 63 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |