|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 24 van 53 gevonden artikelen
| Titel: |
Low energy, high intensity metal ion implantation method for deep dopant containing layer formation |
| Auteur: |
Ryabchikov, Alexander I. Shevelev, Alexey E. Sivin, Denis O. Ivanova, Anna I. Medvedev, Vladislav N. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 355 (2018) nr. C pagina's 123-128 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 24 van 53 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |