|
Aluminum nitride thin films deposited by hydrogen plasma enhanced and thermal atomic layer deposition |
|
|
|
Titel: |
Aluminum nitride thin films deposited by hydrogen plasma enhanced and thermal atomic layer deposition |
Auteur: |
Tian, L. Ponton, S. Benz, M. Crisci, A. Reboud, R. Giusti, G. Volpi, F. Rapenne, L. Vallée, C. Pons, M. Mantoux, A. Jiménez, C. Blanquet, E. |
Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
Paginering: |
Jaargang 347 () nr. C pagina's 181-190 |
Jaar: |
2018 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier B.V. |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|