|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 75 van 84 gevonden artikelen
| Titel: |
Stress mechanisms of SiO2 and Nb2O5 thin films sputtered on flexible substrates investigated by finite element method |
| Auteur: |
Chen, Hsi-Chao Huang, Chen-Yu Cheng, Po-Wei |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 344 (2018) nr. C pagina's 449-457 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 75 van 84 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |