|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 38 van 88 gevonden artikelen
| Titel: |
High deposition rate nanocrystalline and amorphous silicon thin film production via surface wave plasma source |
| Auteur: |
Peck, Jason A. Zonooz, Piyum Curreli, Davide Panici, Gianluca A. Jurczyk, Brian E. Ruzic, David N. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 325 (2017) nr. C pagina's 370-376 |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 38 van 88 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |