|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 59 van 108 gevonden artikelen
| Titel: |
Optimization of residual stress of SiO2/organic silicon stacked layer prepared using inductively coupled plasma deposition |
| Auteur: |
Hsu, Chia-Hsun Cho, Yun-Shao Liu, Ting-Xuan Chang, Hsi-Wei Lien, Shui-Yang |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 320 (2017) nr. C pagina's 293-297 |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 59 van 108 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |