|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 32 gevonden artikelen
| Titel: |
A high-activity nitrogen plasma flow source for deposition of silicon nitride films |
| Auteur: |
Shi, D.Q. Xu, W. Miao, C.Y. Ma, C.Y. Ren, C.S. Lu, W.Q. Zhang, Q.Y. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 294 (2016) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 32 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |