Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 3 van 32 gevonden artikelen
 
 
  A high-activity nitrogen plasma flow source for deposition of silicon nitride films
 
 
Titel: A high-activity nitrogen plasma flow source for deposition of silicon nitride films
Auteur: Shi, D.Q.
Xu, W.
Miao, C.Y.
Ma, C.Y.
Ren, C.S.
Lu, W.Q.
Zhang, Q.Y.
Verschenen in: Surface & coatings technology
Paginering: Jaargang 294 (2016) nr. C pagina's 7 p.
Jaar: 2016
Inhoud:
Uitgever: Elsevier B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 3 van 32 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland