|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 47 van 52 gevonden artikelen
| Titel: |
Surface and gas phase reactions induced in a trichlorosilane–SiHx system for silicon film deposition |
| Auteur: |
Sakurai, Ayumi Saito, Ayumi Habuka, Hitoshi |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 272 () nr. C pagina's 273-277 |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 47 van 52 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |