|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 41 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of substrate temperature on properties of HfO2, HfO2:Al and HfO2:W films |
| Auteur: |
Lin, Su-Shia Liao, Chung-Sheng Fan, Sheng-You |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 271 (2015) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 41 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |