|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 18 van 59 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of deposition temperature on deposition kinetics and mechanism of silicon boron nitride coating deposited from SiCl4–BCl3–NH3–H2–Ar mixture using low pressure chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Liu, Yongsheng Chai, Nan Li, Zan Ye, Fang Liu, Xiaofei Cheng, Laifei |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 261 (2015) nr. C pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 18 van 59 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |