|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 56 van 76 gevonden artikelen
| Titel: |
Process stabilization and a significant enhancement of the deposition rate in reactive high-power impulse magnetron sputtering of ZrO2 and Ta2O5 films |
| Auteur: |
Vlček, J. Rezek, J. Houška, J. Čerstvý, R. Bugyi, R. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 236 (2013) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 56 van 76 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |