|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 21 gevonden artikelen
| Titel: |
Effective phase control of silicon films during high-rate deposition in atmospheric-pressure very high-frequency plasma: Impacts of gas residence time on the performance of bottom-gate thin film transistors |
| Auteur: |
Kakiuchi, H. Ohmi, H. Yamada, T. Hirano, A. Tsushima, T. Lin, W. Yasutake, K. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 234 (2013) nr. C pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 21 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |