|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of VHF excitation frequency on localized deposition of silicon in non-equilibrium-plasma-enhanced CVD by an under-expanded supersonic jet |
| Auteur: |
Kuribayashi, Shizuma Tsunekawa, Yoshihiro Akahori, Shoji Ando, Daisuke Nakamura, Jiro Nishida, Satoshi Muta, Hiroshi Takeuchi, Yoshiaki Yamauchi, Yasuhiro Takatsuka, Hiromu |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 225 (2013) nr. C pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 18 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |