|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Deposition of titanium oxide films by reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS): Influence of the peak current value on the transition from metallic to poisoned regimes |
| Auteur: |
Nouvellon, C. Michiels, M. Dauchot, J.P. Archambeau, C. Laffineur, F. Silberberg, E. Delvaux, S. Cloots, R. Konstantinidis, S. Snyders, R. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 206 (2012) nr. 16 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |