|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 47 van 133 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of the substrate temperature on the deposition of thin SiOx films by atmospheric pressure microwave plasma torch (TIA) |
| Auteur: |
Landreau, Xavier Dublanche-Tixier, Christelle Jaoul, Cédric Le Niniven, Christophe Lory, Nicolas Tristant, Pascal |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 205 (2011) nr. S2 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 47 van 133 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |