|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 24 van 133 gevonden artikelen
| Titel: |
Complex analysis of SiO x C y H z films deposited by an atmospheric pressure dielectric barrier discharge |
| Auteur: |
Schäfer, Jan Horn, Stefan Foest, Rüdiger Brandenburg, Ronny Vašina, Petr Weltmann, Klaus-Dieter |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 205 (2011) nr. S2 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 24 van 133 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |