|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 43 van 93 gevonden artikelen
| Titel: |
High rate deposition of highly stable a-Si:H films using multi-hollow discharges for thin films solar cells |
| Auteur: |
Nakamura, William Makoto Matsuzaki, Hidefumi Sato, Hiroshi Kawashima, Yuuki Koga, Kazunori Shiratani, Masaharu |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 205 (2010) nr. S1 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 43 van 93 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |