|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 38 van 93 gevonden artikelen
| Titel: |
Etching characteristics of TaN thin film using an inductively coupled plasma |
| Auteur: |
Um, Doo-Seung Woo, Jong-Chang Kim, Chang-Il |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 205 (2010) nr. S1 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 38 van 93 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |