|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 39 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of H2 plasma treatment on properties of ZnO:Al thin films prepared by RF magnetron sputtering |
| Auteur: |
Wang, Fang-Hsing Chang, Hung-Peng Tseng, Chih-Chung Huang, Chia-Cheng |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 205 (2011) nr. 23-24 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 39 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |