|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 18 van 58 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of annealing conditions and thickness ratio of Si/Al films on the Hall carrier mobility, Al carrier concentration, and nanovoids formed in the metal-induced Si crystallization of Si/Al/Si/SiO2/glass specimens |
| Auteur: |
Peng, Cheng Chang Chung, Chen Kuei Wu, Bo Hsiung Weng, Min Hang Huang, Chil Chieh Lin, Jen Fin |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 205 (2011) nr. 19 pagina's 11 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 18 van 58 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |