|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 51 van 111 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of hollow cathode plasma on AlCrN-thin film deposition with vacuum arc evaporation sources |
| Auteur: |
Holzherr, M. Falz, M. Schmidt, T. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 203 (2008) nr. 5-7 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 51 van 111 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |