|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 68 van 135 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of Ar gas flow rate in organosilicon plasma for the fabrication of SiO:CH thin films by PECVD method |
| Auteur: |
Yun, Yongsup Yoshida, Takanori Shimazu, Norifumi Nanba, Naoki Inoue, Yasushi Saito, Nagahiro Takai, Osamu |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 202 (2008) nr. 22-23 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 68 van 135 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |