|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 81 van 213 gevonden artikelen
| Titel: |
High rate growth of high-quality microcrystalline silicon films from plasma by interconnected multi-hollow cathode |
| Auteur: |
Niikura, Chisato Itagaki, Naho Matsuda, Akihisa |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 201 (2007) nr. 9-11 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 81 van 213 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |