|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 52 van 213 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of N2O/SiH4 flow ratio on properties of SiO x thin films deposited by low-temperature remote plasma-enhanced chemical deposition |
| Auteur: |
Kim, D.J. Hwang, J.Y. Kim, T.J. Lee, N.-E. Kim, Y.D. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 201 (2007) nr. 9-11 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 52 van 213 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |