|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 213 gevonden artikelen
| Titel: |
Chemical dry etching of silicon nitride in F2/Ar remote plasmas |
| Auteur: |
Hwang, J.Y. Kim, D.J. Lee, N.-E. Jang, Y.C. Bae, G.H. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 201 (2007) nr. 9-11 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 213 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |