|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 156 van 213 gevonden artikelen
| Titel: |
SiO x N y thin film deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition at low temperature using HMDS–O2–NH3–Ar gas mixtures |
| Auteur: |
Lee, J.H. Jeong, C.H. Lim, J.T. Zavaleyev, V.A. Kyung, S.J. Yeom, G.Y. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 201 (2007) nr. 9-11 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 156 van 213 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |