Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 212 van 228 gevonden artikelen
 
 
  Thermodynamical analysis of Al and Si halide gaseous precursors in CVD. Review and approximation for deposition at moderate temperature in FBR-CVD process
 
 
Titel: Thermodynamical analysis of Al and Si halide gaseous precursors in CVD. Review and approximation for deposition at moderate temperature in FBR-CVD process
Auteur: Brossard, J.M.
Hierro, M.P.
Sánchez, L.
Bolívar, F.J.
Pérez, F.J.
Verschenen in: Surface & coatings technology
Paginering: Jaargang 201 (2006) nr. 6 pagina's 9 p.
Jaar: 2006
Inhoud:
Uitgever: Elsevier B.V.
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 212 van 228 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland