|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 212 van 228 gevonden artikelen
| Titel: |
Thermodynamical analysis of Al and Si halide gaseous precursors in CVD. Review and approximation for deposition at moderate temperature in FBR-CVD process |
| Auteur: |
Brossard, J.M. Hierro, M.P. Sánchez, L. Bolívar, F.J. Pérez, F.J. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 201 (2006) nr. 6 pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2006 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 212 van 228 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |