|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 85 van 122 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma and gas-phase characterization of a pulsed plasma-enhanced chemical vapor deposition system engineered for self-limiting growth of aluminum oxide thin films |
| Auteur: |
Szymanski, Scott F. Seman, Michael T. Wolden, Colin A. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 201 (2007) nr. 22-23 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 85 van 122 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |