|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 130 van 136 gevonden artikelen
| Titel: |
Thermal diffusion behavior of implanted germanium atoms in silicon dioxide film measured by high-resolution RBS |
| Auteur: |
Arai, Nobutoshi Tsuji, Hiroshi Gotoh, Naoyuki Minotani, Takashi Ishibashi, Toyotsugu Okumine, Tetsuya Adachi, Kouichirou Kotaki, Hiroshi Gotoh, Yasuhito Ishikawa, Junzo |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 201 (2007) nr. 19-20 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 130 van 136 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |