|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 69 gevonden artikelen
| Titel: |
Characterization of SiO2 thin films prepared by plasma-activated chemical vapour deposition |
| Auteur: |
Pfuch, A. Heft, A. Weidl, R. Lang, K. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 201 (2006) nr. 1-2 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2006 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 69 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |