|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 57 gevonden artikelen
| Titel: |
Heat, moisture and chemical resistance on low dielectric constant (low-k) film using Diethoxymethylsilane (DEMS) prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Cheng, Y.L. Wang, Y.L. Lan, J.K. Hwang, G.J. O'Neil, M.L. Chen, C.F. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 200 (2006) nr. 10 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2006 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 57 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |