|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 186 van 263 gevonden artikelen
| Titel: |
Properties of SiO x N y thin film deposited by low temperature plasma enhanced chemical vapor deposition using TEOS–NH3–O2–N2 gas mixtures |
| Auteur: |
Lee, J.H. Jeong, C.H. Lim, J.T. Jo, N.G. Kyung, S.J. Yeom, G.Y. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 200 (2005) nr. 1-4 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 186 van 263 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |