|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 35 van 75 gevonden artikelen
| Titel: |
Improvement of SiO2 pattern profiles etched in CF4 and SF6 plasmas by using a Faraday cage and neutral beams |
| Auteur: |
Min, Jae-Ho Lee, Gyeo-Re Lee, Jin-kwan Kim, Chang-Koo Heup Moon, Sang |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 193 (2005) nr. 1-3 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 35 van 75 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |