|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 75 gevonden artikelen
| Titel: |
Effects of annealing on the microstructure and electrical properties of TaN-Cu nanocomposite thin films |
| Auteur: |
Wang, C.M. Hsieh, J.H. Li, C. Fu, Y. Chen, T.P. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 193 (2005) nr. 1-3 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 75 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |