|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 26 van 37 gevonden artikelen
| Titel: |
Residual stress analysis—an important consideration for coating of stereolithography polymers |
| Auteur: |
Luan, Ben Liu, Xing Yang Nagata, John Cheong, Woo-Jae |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 192 (2005) nr. 2-3 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 26 van 37 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |