|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 14 van 32 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of argon flow rate on TiO2 photocatalyst film deposited by dc reactive magnetron sputtering |
| Auteur: |
Zhang, Wenjie Li, Ying Zhu, Shenglong Wang, Fuhui |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 182 (2004) nr. 2-3 pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2004 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 14 van 32 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |