|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 23 van 32 gevonden artikelen
| Titel: |
New type of plasma reactor for thin film deposition: magnetron plasma process assisted by microwaves to ionise sputtered vapour |
| Auteur: |
Boisse-Laporte, C. Leroy, O. de Poucques, L. Agius, B. Bretagne, J. Hugon, M.C. Teulé-Gay, L. Touzeau, M. |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 179 (2004) nr. 2-3 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2004 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 23 van 32 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |