|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 32 gevonden artikelen
| Titel: |
Low temperature silicon dioxide film deposition by remote plasma enhanced chemical vapor deposition: growth mechanism |
| Auteur: |
Park, Young-Bae Rhee, Shi-Woo |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 179 (2004) nr. 2-3 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2004 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 32 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |