|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 29 gevonden artikelen
| Titel: |
Characterization of CF x films plasma chemically deposited from C3F8/C2H2 precursors |
| Auteur: |
Koshel, D Ji, H Terreault, B Côté, A Ross, G.G Abel, G Bolduc, M |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 173 (2003) nr. 2-3 pagina's 11 p. |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 29 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |