|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 29 gevonden artikelen
| Titel: |
Measured and calculated retained dose with different process parameters in plasma based ion implantation |
| Auteur: |
Qi, Sun Lifang, Xia Xinxin, Ma Mingren, Sun |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 173 (2003) nr. 2-3 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 29 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |