|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 14 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Substrate bias effects in plasma immersion ion implantation assisted deposition from a TiAl cathodic arc |
| Auteur: |
Mukherjee, S Reuther, H Prokert, F Richter, E Moeller, W |
| Verschenen in: |
Surface & coatings technology |
| Paginering: | Jaargang 160 (2002) nr. 1 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 14 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |